レーザ光学関連機器

レーザ微細加工装置 NEL-150i

レーザ微細加工装置 NEL-150i

高出力YAGレーザ発振器と顕微鏡光学系、位置決め再現性±0.25µmの高精度XYステージを組み合わせた半導体ウェハ用超精密レーザ加工装置。

  • 短波長照明(g線:436nm)と高倍率、高NA対物レンズにより、高い分解能でワークを観察することができます。
  • 高出力YAGレーザを搭載。φ0.5μm以下の微細加工が可能です。
  • レーザ干渉計による高精度なXYステージを搭載。
  • ワーク上に形成された微細パターンの特定箇所の座標を高精度に得ることができます。
  • 外部から与えたXY座標でステージを制御することにより、高精度に位置決めを行いマーキングすることが可能です。
レーザ微細加工装置 NEL-150i
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レーザ微細加工装置 NEL-100

レーザ微細加工装置 NEL-100

レーザ微細加工装置NEL-150iの姉妹機。ストローク100mm、再現性±1µmのステージを搭載しました。
普及型レーザ微細加工・マーキング装置として、広範な用途にご利用いただけます。

レーザ微細加工装置 NEL-100
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簡易レーザマーキング装置 NLB-150L

簡易レーザマーキング装置 NLB-150L

レーザ鏡筒NLB-4と手動レボMR-5、ニコン製6インチステージを組み合わせた簡易型レーザマーキング顕微鏡です。
研究分野などのマーキング用途に最適です。

※各種組合せが可能です。写真はニコン顕微鏡用デジタルカメラDSシリーズとの組み合わせです。
レーザはHOYA CANDEO OPTRONICS製HSL5000シリーズ

※装置のレーザクラスに応じた安全管理をお願いします。

簡易レーザマーキング装置 NLB-150L
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レーザ用光学鏡筒 NLB-4

レーザ用光学鏡筒 NLB-4

YAGレーザの4波長全てに対応した、コンパクトな装置組込用光学鏡筒。
レーザ微細加工に最適。

  • 液晶基板、半導体回路等の配線膜、絶縁膜、微細デバイス等の微細加工・欠陥除去・マーキング用途に最適です。
  • 基本波(1064nm)から第4高調波(266nm)までの多波長のYAGレーザ光源を用いたレーザ微細加工装置に対応します。
  • 落射照明光学系(可視)と観察用光学系(Cマウント付き)を内蔵しています。

※写真(イメージ)は組合せの一例です。各種レボルバ、対物レンズの取付も可能です。

レーザ用光学鏡筒 NLB-4
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顕微鏡用レーザ中間鏡筒

顕微鏡用レーザ中間鏡筒

ニコン顕微鏡L200/L300と組合せ、可視光レーザによるマーキングを可能にする中間鏡筒です。三眼鏡筒には、レーザ安全対応の改造を行います。

※写真はニコン製顕微鏡L300との組み合わせです。
レーザはHOYA CANDEO OPTRONICS製HSL4000シリーズ

※装置のレーザクラスに応じた安全管理をお願いします。