露光装置

縮小投影露光装置 MEMSステッパーシリーズ

NES1W-i10NEW     NES2W-i10

NES2W-i10

次世代MEMSのFOWLP(Fan Out Wafer Level Package)に向けたワイドフィールド露光装置です。

NES1W-i10 NES2W-i10
カタログダウンロード PDF:2.75MB
NES1W-i10NES2W-i10
投影レンズi10
露光範囲 (mm)□44
長方形対応可
縮小倍率1/1
解像度 (µm)2.6
アライメント精度 (µm)0.6
処理能力125枚 / h (φ150mm)90枚 / h (Φ200mm)

NES1W-ghi06/i06 NES2W-ghi06/i06

NES1W-ghi06/i06 NES2W-ghi06/i06

ブロードバンドに対応。
LED / MEMS / Power Device市場に向けた 縮小投影露光装置です。

NES1W-ghi06/i06 NES2W-ghi06/i06
カタログダウンロード PDF:436KB
 NES1WNES2W
投影レンズghi06i06ghi06i06
露光範囲 (mm)□22
長方形対応可
□22
長方形対応可
縮小倍率-1/1.8-1/1.8
解像度 (µm)2.522.52
アライメント精度 (µm)0.30.35
処理能力100枚 / h(Φ150mm)95枚 / h(Φ150mm)62枚 / h(Φ200mm)59枚 / h(Φ200mm)

NES1W-h04/h04A NES2W-h04/h04A

多様化するLED/MEMS工程のニーズに対応した縮小投影露光装置です。
世界最小レベルのフットプリントを実現。

NES1W-h04/h04Aカタログダウンロード
PDF:384KB
 NES1WNES2W
投影レンズh04h04Ah04h04A
露光範囲 (mm)□15
長方形対応可
□15
長方形対応可
縮小倍率-1/2.5-1/2.5
解像度 (µm)21.621.6
アライメント精度 (µm)0.30.35
処理能力70枚 / h(Φ150mm)35枚 / h(Φ200mm)

マイクロ露光装置

ME-1000

マイクロ露光装置 ME-1000

TTL(Through The Lens)観察点にそのまま露光できるサブミクロン露光装置です。
レチクル縮小投影、スリット縮小投影、タイトラー露光を選択できます。

マイクロ露光装置 ME-1000
カタログダウンロード PDF:1.3MB