露光装置

縮小投影露光装置 MEMSステッパーシリーズ

MEMSデバイスの多様化に対応

  • 2~6インチウェハ対応機、6~8インチウェハ対応機をラインナップ
  • MEMS用R&D用途からプロダクションまで一台での対応が可能
  • 様々な基板サイズ/形状、接着、変形などご要望に合わせてカスタム対応が可能
  • 深いDOFで厚膜に対応
  • IR、裏面アライメントが可能(オプション)
  • イージーインストール/スマートオペレーション
NES1W-i10 NES2W-i10
カタログダウンロード PDF:2.75MB
NES1W-ghi06/i06 NES2W-ghi06/i06
カタログダウンロード PDF:436KB
NES1W-h04/h04A
カタログダウンロード PDF:344KB
投影レンズNEW
i04
NEW
i05
開発中
i10A
i10
本体NES1 (≦ 6") / NES2 (6" & 8")
波長 (nm)365
(i-line)
解像力 L/S (μm)1.01.21.83.7
ベストパフォーマンス
解像力 L/S (μm) *1
0.81.01.32.6
焦点深度 (μm) *26101874
露光フィールド (mm)15×1522×2250×5044×44
照度 (mW/cm2)1000700300300
重ね合わせ精度 (μm) (M+3σ)0.30.30.60.6
ウエハサイズ≦ 6"6" & 8"6" & 8"8"
処理能力 8" (WPH)
(100 mJ/cm2)
N/A457171
処理能力 6" (WPH)
(100 mJ/cm2)
6281121N/A
投影レンズi06ghi06h04h04A
本体NES1 (≦ 6") / NES2 (6" & 8")
波長 (nm)365
(i-line)
365-436
(ghi-line)
405
(h-line)
解像力 L/S (μm)2.02.32.01.6
ベストパフォーマンス
解像力 L/S (μm) *1
1.41.7N/A
焦点深度 (μm) *2221610
露光フィールド (mm)22×2215×15
照度 (mW/cm2)8001400800
重ね合わせ精度 (μm) (M+3σ)NES1:0.3  NES2:0.350.3
ウエハサイズ6" & 8"≦ 6"
処理能力 8" (WPH)
(100 mJ/cm2)
4548N/AN/A
処理能力 6" (WPH)
(100 mJ/cm2)
828760

注記 *1:最良のプロセスコンディションにおいて
   *2:最良の条件で算出した値です