測定・検査機器

マスク寸法測定機

フォトマスクの微細パターンを測定するのがマスク寸法測定機です。
高解像度の光学系と高精度測定アルゴリズムの採用により、高精度な線幅測定、座標測定を実現しています。

顕微鏡から露光機まで手がける光学設計・製造部門の技術の粋を集めて作られたｉ線専用の光学系。
それによって得られる隅々までシャープな画像が、高精度な線幅測定を支えています。

高度なシミュレーション技術によって、フラットに見えるフォトマスクの僅かなたわみに起因するズレも補正し、座標測定を行います。

ウェハ（基板）の表裏両面に設けられたパターン間の座標を測定するのが両面座標測定機です。両面光学系検出方式を採用し、高精度な座標測定を実現しています。

光学機器組立の国家資格保有者によって完璧に調整された試料上下の顕微鏡が、瞬時に試料表裏のズレを検出します。

マイスター^※によるミクロン単位で精度出しをされたナノメートル制御用超精密ステージが、安定した測定を支えています。
※マイスターの指導の下

手作業で仕上げられた超平面【A】

【A】の合わせにより組まれたステージ

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